[发明专利]对用于PVD方法的衬底进行预处理的方法有效
| 申请号： | 200980145840.4 | 申请日： | 2009-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN102216486A | 公开（公告）日： | 2011-10-12 |
| 发明（设计）人： | H.鲁迪吉尔;J.拉姆;B.维德里希;T.冯布劳克 | 申请（专利权）人： | 欧瑞康贸易股份公司（特吕巴赫） |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李少丹;卢江 |
| 地址： | 瑞士特*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于在真空处理设备中对工件进行表面处理的方法，该真空处理设备具有构成为靶的第一电极，该第一电极是电弧蒸镀源的部件，其中在该第一电极上用火花电流运行火花，通过该火花电流从所述靶蒸镀材料，该材料至少部分及暂时地沉积在工件上，并且该真空处理设备具有构成为工件固定装置并且与工件一起形成偏置电极的第二电极，其中借助电压源来施加偏置电压到偏置电极上，其中使得偏置电压与火花电流相协调地被施加，使得在表面上基本上纯粹不发生材料合成。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 pvd 方法 衬底 进行 预处理 | ||
【主权项】：
一种用于在真空处理设备中对工件进行表面处理的方法，该真空处理设备具有构成为靶的第一电极，该第一电极是电弧蒸镀源的部件，其中在该第一电极上用火花电流运行火花，通过该火花电流从所述靶蒸镀材料，该材料至少部分及暂时地沉积在所述工件上，并且该真空处理设备具有构成为工件固定装置并且与工件一起形成偏置电极的第二电极，其中借助电压源将偏置电压施加到该偏置电极上，其中该偏置电压与火花电流相协调地被施加，使得在该表面上基本上纯粹不发生材料合成，其特征在于，用脉冲式电流运行该第一电极，其中通过该脉冲产生与非脉冲式运行相比提高的经过工件表面的衬底电流，并且由此在相对于第一电极的非脉冲式运行来说更低的偏置电压的情况下在该表面上纯粹不发生材料合成。
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