[发明专利]使用光解和/或热化学气相沉积法涂布容器内部的系统、设备和方法无效
申请号: | 200980144206.9 | 申请日: | 2009-09-22 |
公开(公告)号: | CN102209800A | 公开(公告)日: | 2011-10-05 |
发明(设计)人: | N·罗德里格斯圣胡安;S·斯里德哈兰 | 申请(专利权)人: | 贝克顿·迪金森公司 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 任永利 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供系统、设备和方法来将阻挡和/或润滑剂材料涂覆到容器的内表面上,所述系统包括具有腔室的容器;气体供应源,用于经具有延伸到所述腔室的部分的进气口管道供应单体气体;光解源和/或热解表面,用于使所述单体气体的至少一部分光解和/或热解以形成包含至少一个反应性结构部分的反应性气体;任选的温度控制器,用于保持所述容器的内表面处于低于所述热解表面的温度的温度以便使所述反应性结构部分在所述容器的内表面上沉积并聚合;和出口管道,其在所述容器的开放末端或第二末端,用于从所述腔室移出过量的反应性气体。 | ||
搜索关键词: | 使用 光解 热化学 沉积 法涂布 容器 内部 系统 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种用于涂布容器的内壁表面的至少一部分的系统,其包含:(a)容器,其包含开放末端、在所述开放末端对侧的第二末端和在它们之间延伸的壁,所述壁具有外壁表面和内壁表面,所述容器具有在由在所述容器的开放末端和第二末端之间的内壁表面限定的区域内的腔室;(b)单体气体供应源,用于供应至少一种单体气体;(c)进气口管道,其安置在所述容器的开放末端且具有延伸到所述腔室的一部分的部分,用于将从所述单体气体供应源接收的至少一种单体气体供应到所述腔室;(d)热解表面,用于使供应到所述容器的腔室的所述单体气体的至少一部分热解以由所述单体气体形成包含至少一个反应性结构部分的反应性气体;(e)温度控制器,用于保持所述容器的内壁表面处于低于所述热解表面的温度的温度以便于所述反应性结构部分在所述容器的内壁表面的至少一部分上沉积并聚合;和(f)出口管道,其安置在所述容器的开放末端或所述容器的第二末端,用于从所述腔室移出过量的反应性气体。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的