[发明专利]光刻设备、可编程图案形成装置和光刻方法有效
| 申请号： | 200980137090.6 | 申请日： | 2009-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN102203674A | 公开（公告）日： | 2011-09-28 |
| 发明（设计）人： | P·W·H·德贾格;V·Y·拜尼恩;J·P·H·本肖普;桂成群;约翰内斯·昂伍李;E·J·范兹维特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在一个实施例中，公开了一种光刻设备，所述光刻设备包括：调制器，配置成使衬底的曝光区域由根据期望的图案调制的多个束进行曝光；和投影系统，配置成将调制后的束投影到衬底上。调制器可以是相对于曝光区域可移动的和/或投影系统可以具有用于接收多个束的透镜阵列，所述透镜阵列相对于曝光区域是可移动的。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 可编程 图案 形成 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：衬底保持器，构造成保持衬底；调制器，配置成使所述衬底的曝光区域由根据期望的图案调制的多个束进行曝光；和投影系统，配置成将所述调制的束投影到所述衬底上且包括接收所述多个束的透镜阵列，所述投影系统配置成在所述曝光区域的曝光期间相对于所述调制器移动所述透镜阵列。
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