[发明专利]光刻设备、可编程图案形成装置和光刻方法有效

专利信息
申请号: 200980137090.6 申请日: 2009-09-21
公开(公告)号: CN102203674A 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: P·W·H·德贾格;V·Y·拜尼恩;J·P·H·本肖普;桂成群;约翰内斯·昂伍李;E·J·范兹维特 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王波波
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 光刻 设备 可编程 图案 形成 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种光刻设备,包括:

衬底保持器,构造成保持衬底;

调制器,配置成使所述衬底的曝光区域由根据期望的图案调制的多个束进行曝光;和

投影系统,配置成将所述调制的束投影到所述衬底上且包括接收所述多个束的透镜阵列,所述投影系统配置成在所述曝光区域的曝光期间相对于所述调制器移动所述透镜阵列。

2.根据权利要求1所述的光刻设备,其中,每一透镜包括沿着从所述调制器至所述衬底的所述多个束中的至少一个的束路径布置的至少两个透镜。

3.根据权利要求2所述的光刻设备,其中,所述至少两个透镜中的第一透镜包括场透镜,所述至少两个透镜中的第二透镜包括成像透镜。

4.根据权利要求3所述的光刻设备,其中,所述场透镜的焦平面与所述成像透镜的后焦面重合。

5.根据权利要求3或4所述的光刻设备,其中,所述成像透镜包括双非球面透镜。

6.根据权利要求3-5中任一项所述的光刻设备,其中,所述场透镜的焦距使得所述成像透镜的场尺寸小于2至3°半角。

7.根据权利要求3-6中任一项所述的光刻设备,其中,所述成像透镜的焦距使得对在所述衬底处的为0.2的NA,所述成像透镜不会变得大于所述场透镜的直径。

8.根据权利要求7所述的光刻设备,其中,所述成像透镜的焦距等于所述场透镜的直径。

9.根据权利要求3-8中任一项所述的光刻设备,其中,用所述场透镜和所述成像透镜的单一组合使得多个所述束成像。

10.根据权利要求3-9中任一项所述的光刻设备,还包括焦点控制装置,该焦点控制装置沿着从所述调制器至所述场透镜的所述多个束中的至少一个束的束路径布置。

11.根据权利要求10所述的光刻设备,其中,所述焦点控制装置包括折叠反射镜和可移动屋顶。

12.根据权利要求3所述的光刻设备,还包括在所述路径中的透镜,以将所述束从所述第一透镜准直至所述第二透镜。

13.根据权利要求12所述的光刻设备,其中,用于准直所述束的在所述路径中的透镜相对于所述调制器基本上是静止的。

14.根据权利要求3,12和13中任一项所述的光刻设备,还包括在所述调制器和所述第一透镜之间的路径中的透镜,以朝向所述第一透镜聚焦所述多个束中的至少一个。

15.根据权利要求14所述的光刻设备,其中,用于聚焦所述束的在所述路径中的透镜相对于所述调制器是基本上静止的。

16.根据权利要求3和12-15中任一项所述的光刻设备,其中,所述场透镜的光轴与所述成像透镜的光轴重合。

17.根据权利要求2所述的光刻设备,其中,所述至少两个透镜中的第一透镜包括至少两个子透镜,其中所述多个束中的至少一个束在所述两个子透镜中间被聚焦。

18.根据权利要求17所述的光刻设备,其中,所述至少两个子透镜中的每一个具有大致相等的焦距。

19.根据权利要求2,17和18中任一项所述的光刻设备,其中,所述第一透镜被布置成朝向所述至少两个透镜中的第二透镜输出被准直的束。

20.根据权利要求2和17-19中任一项所述的光刻设备,配置成以不同于所述至少两个透镜中的第二透镜的速度移动所述至少两个透镜中的第一透镜。

21.根据权利要求20所述的光刻设备,其中,所述第二透镜的速度是所述第一透镜的速度的两倍。

22.根据权利要求1所述的光刻设备,其中,每一透镜包括4f远心进入/远心出去的成像系统。

23.根据权利要求22所述的光刻设备,其中,所述4f远心进入/远心出去的成像系统包括至少6个透镜。

24.根据权利要求1所述的光刻设备,还包括在所述调制器和所述透镜阵列之间的消转仪。

25.根据权利要求24所述的光刻设备,其中,所述消转仪包括pechan棱镜。

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