[发明专利]包括针对散射辐射的校正单元的成像装置有效
| 申请号： | 200980136061.8 | 申请日： | 2009-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN102160085A | 公开（公告）日： | 2011-08-17 |
| 发明（设计）人： | J·维格特;M·贝尔特拉姆 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G06T11/00 | 分类号： | G06T11/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于产生对象的感兴趣区域的图像的成像装置。所述成像装置包括：辐射源(2)，其用于发射辐射(4)；以及探测器(6)，其用于测量穿过所述感兴趣区域之后的辐射(4)并用于根据所测量的辐射(4)产生测量的探测值。所述成像装置还包括：衰减元件，其用于在所述辐射(4)穿过所述感兴趣区域之前衰减所述辐射(4)；以及衰减元件散射值提供单元(12)，其用于提供衰减元件散射值，该值取决于所述衰减元件引起的辐射(4)的散射。探测值校正单元(17)基于所提供的衰减元件散射值校正所述测量的探测值，并且重建单元(18)根据经校正的探测值重建感兴趣区域的图像。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 针对 散射 辐射 校正 单元 成像 装置 | ||
【主权项】：
一种用于产生对象(31)的感兴趣区域的图像的成像装置，所述成像装置包括：‑辐射源(2)，其用于发射辐射(4)，‑探测器(6)，其用于在所述辐射(4)穿过所述感兴趣区域之后测量所述辐射(4)并且根据所测量的辐射(4)产生测量的探测值，‑衰减元件(30)，其用于在所述辐射(4)穿过所述感兴趣区域之前衰减所述辐射(4)，‑衰减元件散射值提供单元(12)，其用于提供取决于所述衰减元件(30)引起的所述辐射(4)的散射的衰减元件散射值，‑探测值校正单元(17)，其用于基于所提供的衰减元件散射值校正所测量的探测值，‑重建单元(18)，其用于根据经校正的探测值重建所述感兴趣区域的图像。
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