[发明专利]包括针对散射辐射的校正单元的成像装置有效
| 申请号: | 200980136061.8 | 申请日: | 2009-09-09 |
| 公开(公告)号: | CN102160085A | 公开(公告)日: | 2011-08-17 |
| 发明(设计)人: | J·维格特;M·贝尔特拉姆 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号: | G06T11/00 | 分类号: | G06T11/00 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 王英;刘炳胜 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 包括 针对 散射 辐射 校正 单元 成像 装置 | ||
1.一种用于产生对象(31)的感兴趣区域的图像的成像装置,所述成像装置包括:
-辐射源(2),其用于发射辐射(4),
-探测器(6),其用于在所述辐射(4)穿过所述感兴趣区域之后测量所述辐射(4)并且根据所测量的辐射(4)产生测量的探测值,
-衰减元件(30),其用于在所述辐射(4)穿过所述感兴趣区域之前衰减所述辐射(4),
-衰减元件散射值提供单元(12),其用于提供取决于所述衰减元件(30)引起的所述辐射(4)的散射的衰减元件散射值,
-探测值校正单元(17),其用于基于所提供的衰减元件散射值校正所测量的探测值,
-重建单元(18),其用于根据经校正的探测值重建所述感兴趣区域的图像。
2.根据权利要求1所述的成像装置,其中,所述成像装置包括要在其中放置所述对象(31)的检查区(5)以及用于准直所述辐射源(2)发射的所述辐射的准直器(3),所述准直器(3)位于所述衰减元件(30)和所述检查区(5)之间,其中,所述辐射源(2)、所述探测器(6)和所述准直器(3)适于针对所述辐射(4)的不同的准直测量校准值,并且其中,所述衰减元件散射值提供单元(12)适于基于所述校准值确定所述衰减元件散射值。
3.根据权利要求2所述的成像装置,其中,所述衰减元件散射值提供单元(12)适于通过将一函数拟合到所述校准值来确定所述衰减元件散射值,所述函数考虑了所述校准值的衰减元件散射部分和未散射部分并且取决于所述不同的准直。
4.根据权利要求3所述的成像装置,其中,所述函数对于描述所述校准值的衰减元件散射部分随准直变大而变大具有平方根相关性,并且对于描述所述校准值的未散射部分具有常数相关性,其中,所述衰减元件散射值取决于所述衰减元件散射部分。
5.根据权利要求2所述的成像装置,其中,
-所述探测器(6)包括若干探测器元件(50),
-所述辐射源(2)、所述探测器(6)和所述准直器(3)适于为所述探测器元件的子组(51)针对所述辐射(4)的不同的准直测量校准值,
-所述衰减元件散射值提供单元(12)适于针对所述探测器元件的子组(51)确定所述衰减元件散射值,
-所述成像装置还包括衰减元件散射值比提供单元(13),其用于提供探测器元件的所述子组(51)的衰减元件散射值与所述子组之外的探测器元件的衰减元件散射值的比值,
-所述衰减元件散射值提供单元(12)适于通过将针对所述子组(51)的所述衰减元件散射值乘以所提供的比值来确定针对所述子组之外的探测器元件的衰减元件散射值。
6.根据权利要求5所述的成像装置,其中,所述探测器(6)包括二维探测器表面,其中,探测器元件的所述子组(51)是所述探测器表面上的探测器元件的线。
7.根据权利要求1所述的成像装置,其中,所述成像装置还包括:
-空气扫描值提供单元(15),其用于提供空气扫描值,以及
-空气扫描值校正单元(16),其用于基于所述衰减元件散射值校正所述空气扫描值,
其中,所述探测值校正单元(17)适于基于经校正的空气扫描值校正所测量的探测值。
8.根据权利要求1所述的成像装置,其中,所述探测值校正单元(17)适于针对已经在所述衰减元件(30)中被散射并且被当在所述衰减元件(30)和所述探测器(6)之间存在对象(31)时的所述对象(31)衰减的辐射的衰减,调整所述衰减元件散射值,并且基于所调整的衰减元件散射值校正所测量的探测值。
9.根据权利要求8所述的成像装置,其中,通过将相应的衰减元件散射值乘以取决于所述对象(31)引起的衰减的相应的对象衰减值来执行所述衰减元件散射值的调整。
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