[发明专利]用于磁感应断层成像的方法和系统无效

专利信息
申请号: 200980135589.3 申请日: 2009-09-02
公开(公告)号: CN102187252A 公开(公告)日: 2011-09-14
发明(设计)人: 闫铭;谌达宇;靳华 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G01V3/10 分类号: G01V3/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 谢建云;刘鹏
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及用于磁感应断层成像的方法和系统,该系统包含:至少一个发射线圈(312、314),其用于生成将应用到关注对象(301)的主磁场;以及至少一个测量线圈装置(315、317),其用于测量由次磁场感应形成的电信号,该次磁场是由关注对象响应于主磁场而生成的,其中所述至少一个测量线圈装置包含置于基本上同一平面内的多个测量线圈。通过使用置于一个平面内的多个独立测量线圈从而替代传统单个测量线圈,可以选择两端的测量的差分电压对次磁场变化最敏感的那个测量线圈以用于计算电导率分布变化,使得MIT系统的灵敏度提高。
搜索关键词: 用于 感应 断层 成像 方法 系统
【主权项】:
一种用于重构关注对象(301)的图像的系统(300),所述系统包含:‑ 至少一个发射线圈(312、314),其配置成生成将应用到该关注对象的主磁场;以及‑ 至少一个测量线圈装置(315、317),其配置成测量由次磁场感应形成的电信号,该次磁场是由该关注对象响应于该主磁场而生成的;其中所述至少一个测量线圈装置(315、317)包含置于基本上同一平面内的多个测量线圈(201、202、203、204)。
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