[发明专利]改进的线栅衬底结构和用于制造这种衬底的方法无效
| 申请号： | 200980135215.1 | 申请日： | 2009-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN102150033A | 公开（公告）日： | 2011-08-10 |
| 发明（设计）人： | N·N·卡亚;D·J·W·克伦德 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/55 | 分类号： | G01N21/55;G01N21/64;G01N33/551;G01N33/58 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 谢建云;刘鹏 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种多层衬底结构，其包括：至少一个载体层（11）；第一层（12），所述载体层和第一层彼此接触；和至少一个第二层（13），其具有不同于第一层的化学成分，所述第一层和第二层彼此接触，第二层形成若干开孔，每个开孔具有至少一个小于衍射极限的面内尺度（W1），该衍射极限由激发光的辐射波长限定。本发明进一步涉及这种衬底结构的用途和制造过程以及一种发光传感器。 | ||
| 搜索关键词： | 改进 衬底 结构 用于 制造 这种 方法 | ||
【主权项】：
一种用在将用激发光照射的传感器中的多层衬底结构，包括：至少一个载体层（11），第一层（12），所述载体层和第一层彼此接触，以及至少一个第二层（13），其具有不同于该第一层的化学成分，所述第一层和第二层彼此接触，该第二层形成若干开孔，每个开孔具有至少一个小于衍射极限的面内尺度（W1），该衍射极限由该激发光的辐射波长限定。
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