[发明专利]用于顶栅有机薄膜晶体管的经表面处理的基板无效

专利信息
申请号: 200980134307.8 申请日: 2009-08-07
公开(公告)号: CN102144311A 公开(公告)日: 2011-08-03
发明(设计)人: T·库勒;J·伯勒斯;J·卡特尔;J·哈尔斯;C·纽萨姆 申请(专利权)人: 剑桥显示技术有限公司
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 杨勇
地址: 英国*** 国省代码: 英国;GB
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摘要: 顶栅晶体管的形成方法,该方法包括如下步骤:提供带有源极和漏极的基板,该源极和漏极在其间限定沟道区;处理该沟道区的表面的至少一部分以降低其极性;并在该沟道中沉积半导体层。
搜索关键词: 用于 有机 薄膜晶体管 表面 处理
【主权项】:
顶栅晶体管的形成方法,该方法包括如下步骤:提供带有源极和漏极的基板,该源极和漏极在其间限定沟道区;处理该沟道区的表面的至少一部分以降低其极性;并在该沟道中沉积半导体层。
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