[发明专利]利用光学相干断层成像技术测得多孔材料的折射率对多孔材料的密度进行非接触式测量的方法无效

专利信息
申请号: 200980129962.4 申请日: 2009-08-03
公开(公告)号: CN102112865A 公开(公告)日: 2011-06-29
发明(设计)人: 劳伦·让诺;佛洛朗·桑德拉 申请(专利权)人: 原子能与替代能源委员会
主分类号: G01N21/45 分类号: G01N21/45;G01B11/06
代理公司: 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 代理人: 张雅军
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 一种利用光学相干断层成像技术测得多孔材料的折射率对多孔材料的密度进行非接触式测量的方法。依据本发明,通过光学相干断层成像技术,测定这项技术中所使用的光束穿过由所述材料制成的一物体(20)所对应的光程;测定物体的厚度;由光程及厚度测定材料的折射率;及由折射率测定材料的密度。
搜索关键词: 利用 光学 相干 断层 成像 技术 多孔 材料 折射率 密度 进行 接触 测量 方法
【主权项】:
一种对多孔材料的密度进行非接触式测量的方法,此方法的特征在于:‑凭借一光学相干断层成像技术来测定用于实施所述技术的一光束穿过由所述多孔材料制成的一物体(20,32,44,52,62)所对应的光程,所述多孔材料对所述光束而言是半透明的或透明的,‑测定所述物体的厚度,‑由已测定的光程及厚度来测定所述多孔材料在所述光束的波长下的折射率,及‑由已测定的折射率来测定所述多孔材料的密度。
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