[发明专利]使用注入和退火方法的太阳能电池-选择性发射极的形成无效
| 申请号: | 200980128202.1 | 申请日: | 2009-06-11 | 
| 公开(公告)号: | CN102150278A | 公开(公告)日: | 2011-08-10 | 
| 发明(设计)人: | B·阿迪比;E·S·默尔 | 申请(专利权)人: | 因特瓦克公司 | 
| 主分类号: | H01L31/0368 | 分类号: | H01L31/0368;H01L31/0376 | 
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华;陈宇萱 | 
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US | 
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| 摘要: | 一种形成太阳能电池的方法,该方法包括:提供具有预先掺杂区域的半导体晶片;执行掺杂物至该半导体晶片中的第一离子注入,以在预先掺杂区域之上形成第一掺杂区域,其中第一离子注入具有浓度比对深度分布;以及执行掺杂物至该半导体晶片中的第二离子注入,以在预先掺杂区域之上形成第二掺杂区域,其中所述第二离子注入具有与第一离子注入的浓度比对深度分布不同的浓度比对深度分布,其中第一掺杂区域和第二掺杂区域中的至少一个区域被配置成在接收到光时生成电子-空穴对,并且其中第一离子注入和第二离子注入彼此独立地执行。 | ||
| 搜索关键词: | 使用 注入 退火 方法 太阳能电池 选择性 发射极 形成 | ||
【主权项】:
                一种形成太阳能电池的方法,该方法包括:提供具有预先掺杂区域的半导体晶片;执行掺杂物至所述半导体晶片中的第一离子注入,以在所述预先掺杂区域之上形成第一掺杂区域,其中所述第一离子注入具有浓度比对深度分布;以及执行掺杂物至所述半导体晶片中的第二离子注入,以在所述预先掺杂区域之上形成第二掺杂区域,其中所述第二离子注入具有与所述第一离子注入的浓度比对深度分布不同的浓度比对深度分布,其中所述第一掺杂区域和所述第二掺杂区域中的至少一个区域被配置成在接收到光时生成电子‑空穴对,并且其中所述第一离子注入和第二离子注入彼此独立地执行。
            
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                    H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
                
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