[发明专利]抗蚀剂处理方法

摘要

本发明的目的在于提供一种抗蚀剂处理方法，在双图案法等多图案法中，以极其微细且精度良好的方式形成由第一抗蚀剂图案形成用的抗蚀剂组合物得到的图案。本发明是一种抗蚀剂处理方法，(1)将含有树脂(A)、光产酸剂(B)及交联剂(C)的第一抗蚀剂组合物涂布在基体上并干燥，得到第一抗蚀剂膜，所述树脂(A)具有对酸不稳定的基团，不溶或难溶于碱水溶液，并且与酸作用能溶解于碱水溶液，再将第一抗蚀剂膜进行预烘烤、曝光处理、曝光后烘烤、显影，将第一抗蚀剂图案在比所述第一抗蚀剂组合物的玻璃化温度低的温度下保持规定时间，然后，在所述玻璃化温度以上的温度下保持规定时间进行硬烘烤，在其上涂布第二抗蚀剂组合物并干燥，得到第二抗蚀剂膜，再进行预烘烤，曝光处理，曝光后烘烤，显影。

主权项

一种抗蚀剂处理方法，其包括下述工序：(1)将含有树脂(A)、光产酸剂(B)及交联剂(C)的第一抗蚀剂组合物涂布在基体上并干燥，得到第一抗蚀剂膜的工序，所述树脂(A)具有对酸不稳定的基团，不溶或难溶于碱水溶液，且与酸作用能溶解于碱水溶液；(2)预烘烤第一抗蚀剂膜的工序；(3)曝光处理第一抗蚀剂膜的工序；(4)曝光后烘烤第一抗蚀剂膜的工序；(5)用第一碱显影液显影得到第一抗蚀剂图案的工序；(6)将第一抗蚀剂图案在比所述第一抗蚀剂组合物的玻璃化温度低的温度下保持规定时间，然后，在所述玻璃化温度以上的温度下保持规定时间进行硬烘烤的工序；(7)在第一抗蚀剂图案上涂布第二抗蚀剂组合物并干燥，得到第二抗蚀剂膜的工序；(8)预烘烤第二抗蚀剂膜的工序；(9)曝光处理第二抗蚀剂膜的工序；(10)曝光后烘烤第二抗蚀剂膜的工序；及(11)用第二碱显影液显影得到第二抗蚀剂图案的工序。