[发明专利]用于衬底的等离子体处理的等离子体处理设备和方法有效
| 申请号： | 200980115680.9 | 申请日： | 2009-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN102017056A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | U·克罗尔;B·莱格拉迪克 | 申请（专利权）人： | 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫) |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 王岳;蒋骏 |
| 地址： | 瑞士特*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 一种等离子体处理设备(30、50)，包括具有室壁(35)的工艺室、气体进入装置和气体分布装置、排气装置、以及用于衬底(33)的衬底支架(34)。导电平板(51)被设置在所述室内，可与面对所述导电平板(51)的RF电源(39)电连接，所述导电平板(51)展现开口图案，并且被设置在距所述室的后壁(53)一段距离处，使得传送到导电平板(51)与所述后壁(53)之间的间隙(55)的工艺气体在操作期间在间隙(55)中不点燃等离子体。在第二实施例中，第一电极和第二电极(31，32)被设置在所述工艺室内，彼此邻近，其间有间隙(38)。第一电极(31)可连接到RF电源(39)，第二电极(32)连接到地。第二电极展现开口(36)图案，并且被设置在一段距离处，使得传送到所述间隙的工艺气体不点燃等离子体。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 衬底 等离子体 处理 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理设备(30)，包括：具有工艺室壁(35)的工艺室、工艺气体进入装置和工艺气体分布装置、用于除去残余气体的排气装置、彼此邻近设置因而在其间形成间隙(38)的至少第一电极和第二电极(31、32)、与所述电极(31、32)可电连接的至少一个RF电源(39)；以及面对第二电极(32)的用于衬底(33)的衬底支架(34)，其特征在于，所述第二电极(32)展示开口(36)图案，并且被设置在距所述第一电极(31)一段距离处，使得传送到所述电极(31、32)之间的间隙(38)的工艺气体在操作期间在间隙(38)中不点燃等离子体。
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