[发明专利]包含吸电子取代基和内酯骨架的单体、高分子化合物及光致抗蚀剂组合物有效
申请号: | 200980106342.9 | 申请日: | 2009-02-03 |
公开(公告)号: | CN101959909A | 公开(公告)日: | 2011-01-26 |
发明(设计)人: | 小山裕;北尾久平;江口明良 | 申请(专利权)人: | 大赛璐化学工业株式会社 |
主分类号: | C08F20/36 | 分类号: | C08F20/36;C07D307/93;G03F7/039;H01L21/027 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张平元 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明提供下述式(1)(式中,Ra表示氢原子、碳原子数1~6的烷基等,R1表示卤素原子、任选具有卤素原子的碳原子数1~6的烷基等。A表示碳原子数1~6的亚烷基、氧原子、硫原子或非键合。m表示0~8的整数。X表示吸电子取代基、n表示1~9的整数。Y表示碳原子数1~6的2价有机基团)所表示的包含吸电子取代基和内酯骨架的单体。所述单体将所述单体应用于抗蚀剂用树脂等中时,所述单体作为高功能性高分子等的单体成分等是有用的,所述能够高功能性高分子等在保持耐化学品性等稳定性的同时,在有机溶剂中的溶解性良好,水解性和/或水解后在水中的溶解性得到提高。 |
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搜索关键词: | 包含 电子 取代 内酯 骨架 单体 高分子化合物 光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】:
1.下述式(1)所表示的包含吸电子取代基和内酯骨架的单体,
式中,Ra表示氢原子、卤素原子、或任选具有取代基的碳原子数1~6的烷基;R1是键合在环上的取代基,表示卤素原子、任选具有卤素原子的碳原子数1~6的烷基、羟基部分任选被保护基团保护起来且任选具有卤素原子的碳原子数1~6的羟基烷基、任选成盐的羧基、或取代氧基羰基;A表示碳原子数1~6的亚烷基、氧原子、硫原子或非键合;m为R1的个数,表示0~8的整数;X表示吸电子取代基;n为键合在环上的X的个数,表示1~9的整数;Y表示碳原子数1~6的2价有机基团;CH2=C(Ra)COO-Y-COO-基团的空间位置为内向构型、外向构型中的任意构型。
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