[发明专利]包含吸电子取代基和内酯骨架的单体、高分子化合物及光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.下述式(1)所表示的包含吸电子取代基和内酯骨架的单体，

式中，R^a表示氢原子、卤素原子、或任选具有取代基的碳原子数1～6的烷基；R¹是键合在环上的取代基，表示卤素原子、任选具有卤素原子的碳原子数1～6的烷基、羟基部分任选被保护基团保护起来且任选具有卤素原子的碳原子数1～6的羟基烷基、任选成盐的羧基、或取代氧基羰基；A表示碳原子数1～6的亚烷基、氧原子、硫原子或非键合；m为R¹的个数，表示0～8的整数；X表示吸电子取代基；n为键合在环上的X的个数，表示1～9的整数；Y表示碳原子数1～6的2价有机基团；CH₂＝C(R^a)COO-Y-COO-基团的空间位置为内向构型、外向构型中的任意构型。

2.至少具有下述式(I)所表示的单体单元的高分子化合物，

式中，R^a表示氢原子、卤素原子、或任选具有取代基的碳原子数1～6的烷基；R¹是键合在环上的取代基，表示卤素原子、任选具有卤素原子的碳原子数1～6的烷基、羟基部分任选被保护基团保护起来且任选具有卤素原子的碳原子数1～6的羟基烷基、任选成盐的羧基、或取代氧基羰基；A表示碳原子数1～6的亚烷基、氧原子、硫原子或非键合；m为R¹的个数，表示0～8的整数；X表示吸电子取代基；n为键合在环上的X的个数，表示1～9的整数；Y表示碳原子数1～6的2价有机基团；键合在聚合物链上的-COO-Y-COO-基团的空间位置为内向构型、外向构型中的任意构型。

3.根据权利要求2所述的高分子化合物，该高分子化合物除了具有式(I)所表示的单体单元以外，还至少具有能够通过酸的作用脱离而成为碱可溶性的单体单元。

4.根据权利要求3所述的高分子化合物，其中，所述能够通过酸的作用脱离而成为碱可溶性的单体单元是选自下述式(IIa)～(IId)中的单体单元：

式中，环Z¹表示任选具有取代基的碳原子数5～20的脂环式烃环；R^a表示氢原子、卤素原子、或任选具有取代基的碳原子数1～6的烷基；R²～R⁴相同或不同，表示任选具有取代基的碳原子数1～6的烷基；R⁵是键合于环Z¹上的取代基，彼此相同或不同，表示氧基、烷基、任选被保护基团保护的羟基、任选被保护基团保护的羟基烷基、或任选被保护基团保护的羧基；而且，p个R⁵中的至少1个表示-COOR^c基；所述R^c表示任选具有取代基的叔烃基、四氢呋喃基、四氢吡喃基、或氧杂环庚基；p表示1～3的整数；R⁶、R⁷相同或不同，表示氢原子或任选具有取代基的碳原子数1～6的烷基；R⁸表示氢原子或有机基团；任选R⁶、R⁷、R⁸中的至少2个彼此键合并与相邻的原子一起形成环。

5.根据权利要求2～4中任一项所述的高分子化合物，该高分子化合物除了具有式(I)所表示的单体单元以外，还至少具有下述单体单元，所述单体单元含有具有至少1个取代基的脂环式骨架。

6.根据权利要求5所述的高分子化合物，其中，

所述含有具有至少1个取代基的脂环式骨架的单体单元是选自下述式(III)中的单体单元：

式中，环Z²表示碳原子数6～20的脂环式烃环；R^a表示氢原子、卤素原子、或任选具有取代基的碳原子数1～6的烷基；R⁹为键合于环Z²上的取代基，彼此相同或不同，表示氧基、烷基、卤代烷基、卤素原子、任选被保护基团保护的羟基、任选被保护基团保护的羟基烷基、任选被保护基团保护的巯基、任选被保护基团保护的羧基、任选被保护基团保护的氨基、或任选被保护基团保护的磺酸基；q为R⁹的个数，表示1～5的整数。