[发明专利]化学汽相沉积设备

摘要

本发明的实施例一般涉及用于在基板上进行化学汽相沉积(CVD)的方法及设备，特定的是，涉及用于金属有机化学汽相沉积的工艺腔室及部件。该设备包括：腔室主体，界定工艺容积；喷洒头，位于第一平面，并界定该工艺容积的顶端部分；承载板，在第二平面而延伸跨越该工艺容积，并在该喷洒头与该基座板之间形成上方工艺容积；透明材料，位于第三平面，并界定该工艺容积的底端部分，而在该承载板与该透明材料之间形成下方工艺容积；以及复数个灯，在该透明材料下方形成一或多个区域。该设备提供均一的前驱物流动及混合，并同时维持较大型基板上方的均一温度，因而使生产率有相应的提高。

主权项

一种用于金属有机化学汽相沉积的基板处理设备，包括：腔室主体，形成工艺容积；喷洒头，位于第一平面，并界定该工艺容积的顶端部分；基板承载板，位于第二平面，该第二平面在该第一平面的下方，该承载板延伸跨越该工艺容积，并在该喷洒头与该基板承载板之间界定上方工艺容积；透明材料，位于第三平面，并界定该工艺容积的底端部分，在该承载板与该透明材料之间形成下方工艺容积；以及复数个灯，在该透明材料下方形成一或多个区域，且适于将辐射热导引朝向该承载板以产生一或多个辐射加热区域。