[发明专利]基板台、包括该基板台的溅射装置以及成膜方法有效
| 申请号： | 200980102039.1 | 申请日： | 2009-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN101910455A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | 菊地幸男;沈国华 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/14;G11B5/39;H01L43/08;H01L43/12 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 杨晶;王琦 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种基板台，被配置在真空容器内并具有载置基板的基板载置面，包括对所述基板施加磁场的第一磁场施加单元，所述第一磁场施加单元内部的磁化方向与所述基板的厚度方向一致。 | ||
| 搜索关键词： | 基板台 包括 溅射 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种基板台，被配置在真空容器内并具有载置基板的基板载置面，所述基板台包括：第一磁场施加单元，对所述基板施加磁场，所述第一磁场施加单元的内部的磁化方向与所述基板的厚度方向一致。
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