[实用新型]多功能金属刻蚀机无效
申请号: | 200920214822.4 | 申请日: | 2009-12-18 |
公开(公告)号: | CN201620192U | 公开(公告)日: | 2010-11-03 |
发明(设计)人: | 张擎雪;荆泉;马金辉 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | C23F1/08 | 分类号: | C23F1/08 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 张骥 |
地址: | 201206 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种多功能金属刻蚀机,包括刻蚀腔、去胶腔、清洗腔、缓冲减压腔、对准腔、传送腔;刻蚀腔、去胶腔、清洗腔、对准腔、传送腔设置于缓冲减压腔的周围并与缓冲减压腔连通形成封闭的腔体;缓冲减压腔与刻蚀腔、去胶腔、传送腔、对准腔、清洗腔之间分别设有密封阀门;传送腔的一侧设有硅片盒;传送腔与硅片盒之间设置第一机械手,传送腔、清洗腔分别设有通向硅片盒的外门;缓冲减压腔内设置有第二机械手;清洗腔内设有硅片台。本实用新型具有金属刻蚀、去胶、清洗等多种功能,使处理后硅片上没有刻蚀残留物,减少铝线腐蚀的风险。 | ||
搜索关键词: | 多功能 金属 刻蚀 | ||
【主权项】:
一种多功能金属刻蚀机,其特征在于:包括刻蚀腔、去胶腔、清洗腔、缓冲减压腔、对准腔、传送腔;刻蚀腔、去胶腔、清洗腔、对准腔、传送腔设置于缓冲减压腔的周围并与缓冲减压腔连通形成封闭的腔体;缓冲减压腔与刻蚀腔、去胶腔、传送腔、对准腔、清洗腔之间分别设有密封阀门;传送腔的一侧设有硅片盒;传送腔与硅片盒之间设置第一机械手,传送腔、清洗腔分别设有通向硅片盒的外门;缓冲减压腔内设置有第二机械手;清洗腔内设有硅片台。
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