[发明专利]反射罩及照明装置有效
| 申请号： | 200910304836.X | 申请日： | 2009-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN101963327A | 公开（公告）日： | 2011-02-02 |
| 发明（设计）人： | 彭巧伶;陈添宝;洪沛渊;张雪珍;赖志铭 | 申请（专利权）人： | 富士迈半导体精密工业（上海）有限公司;沛鑫能源科技股份有限公司 |
| 主分类号： | F21V7/10 | 分类号： | F21V7/10;F21V7/04;F21Y101/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201600 上海市松江区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于调整发光二极管光源的光分布的反射罩，其包括一个底板及一个反射环。该底板的中间区域用于容置所述发光二极管光源。该反射环设置在该底板上的环绕该底板的中间区域。该反射环与该底板组合形成一内部空间，该反射环包括多个沿远离该底板的方向堆叠设置的反射单元。每个反射单元的位于所述空间中的内表面为用于反射光线的反射面，该多个反射单元的内表面相对所述底板具有依次增大的斜率。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 照明 装置 | ||
【主权项】：
一种反射罩，用于调整发光二极管光源的光分布，其包括：一个底板，该底板的中间区域用于容置发光二极管光源；一个设置在该底板上的环绕该底板的中间区域的反射环，该反射环与该底板组合形成一内部空间，该反射环包括多个沿远离该底板的方向堆叠设置的反射单元，每个反射单元的位于所述空间中的内表面为用于反射光线的反射面，该多个反射单元的内表面相对所述底板具有依次增大的斜率。
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