[发明专利]反射罩及照明装置有效
申请号: | 200910304836.X | 申请日: | 2009-07-24 |
公开(公告)号: | CN101963327A | 公开(公告)日: | 2011-02-02 |
发明(设计)人: | 彭巧伶;陈添宝;洪沛渊;张雪珍;赖志铭 | 申请(专利权)人: | 富士迈半导体精密工业(上海)有限公司;沛鑫能源科技股份有限公司 |
主分类号: | F21V7/10 | 分类号: | F21V7/10;F21V7/04;F21Y101/02 |
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地址: | 201600 上海市松江区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 照明 装置 | ||
1.一种反射罩,用于调整发光二极管光源的光分布,其包括:
一个底板,该底板的中间区域用于容置发光二极管光源;
一个设置在该底板上的环绕该底板的中间区域的反射环,该反射环与该底板组合形成一内部空间,该反射环包括多个沿远离该底板的方向堆叠设置的反射单元,每个反射单元的位于所述空间中的内表面为用于反射光线的反射面,该多个反射单元的内表面相对所述底板具有依次增大的斜率。
2.如权利要求1所述的反射罩,其特征在于,该多个反射单元中的至少一者的内表面垂直于该底板。
3.如权利要求1所述的反射罩,其特征在于,该底板的中间位置具有一个用于收容所述发光二极管光源的通孔。
4.如权利要求1所述的反射罩,其特征在于,该底板的中间位置具有一个用于收容所述发光二极管光源的凹槽。
5.如权利要求1所述的反射罩,其特征在于,该反射单元为方形结构或圆环形结构。
6.一种照明装置,用于调整发光二极管光源的光分布,其包括:
一个基板;
多个设置在该基板上的发光二极管光源;
一个具有多个独立设置反射罩的反射模组,该多个反射罩分别与该多个发光二极管光源相对应,每个反射罩包括:
一个底板,该底板的中间区域具有一个与该发光二极管光源相对的通孔;
一个设置在该底板上的环绕该通孔的反射环,该反射环与该底板组合形成一内部空间,该反射环包括多个沿远离该底板的方向连续设置的反射单元,每个反射单元的位于所述空间中的内表面为用于反射光线的反射面,该多个反射单元的内表面相对所述底板具有依次增大的斜率。
7.如权利要求6所述的照明装置,其特征在于,进一步包括一个透光板,该透光板覆盖在该反射模组上,该透光板位于该反射模组的与该多个发光二极管光源相对的一侧。
8.如权利要求6所述的照明装置,其特征在于,该反射模组进一步包括一个具有一承载面的承载板,该多个反射罩以阵列排布的方式设置在该承载板的承载面上。
9.如权利要求6所述的照明装置,其特征在于,该多个反射单元中的至少一者的内表面垂直于该底板。
10.如权利要求6所述的照明装置,其特征在于,该反射单元为方形结构或圆环形结构。
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