[发明专利]基于ZnO纳米球的GaN基发光二极管表面粗化方法无效

专利信息
申请号: 200910273064.8 申请日: 2009-12-02
公开(公告)号: CN101740702A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 徐瑾;张建宝;刘榕 申请(专利权)人: 武汉华灿光电有限公司
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38
代理公司: 武汉帅丞知识产权代理有限公司 42220 代理人: 朱必武;李南平
地址: 430223 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种可增加光抽取效率的基于ZnO纳米球的GaN基发光二极管表面粗化方法,该方法包括:在衬底上生长N型GaN材料、量子阱、P型GaN材料;在P型材料上沉积一层用来欧姆接触的P型透明电极;用熔胶凝胶法在透明电极上制备一层ZnO纳米球;腐蚀ZnO和P型透明电极,露出刻蚀区,然后刻蚀到N型GaN材料;制备P,N压焊点。该发明可以有效提高二极管的光抽取效率,并且制备方法简单,工艺过程易控制,适合量产,对生长设备和工艺条件无特殊要求。
搜索关键词: 基于 zno 纳米 gan 发光二极管 表面 方法
【主权项】:
基于ZnO纳米球的GaN基发光二极管表面粗化方法,其特征在于:该方法的实现步骤如下:(1)在衬底上生长N型GaN材料、量子阱、P型GaN材料;(2)在P型材料上沉积一层用来欧姆接触的P型透明电极;(3)用熔胶凝胶法在透明电极上制备一层ZnO纳米球;(4)腐蚀ZnO和P型透明电极,露出刻蚀区,然后刻蚀到N型GaN材料;(5)制备P,N压焊点。
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