[发明专利]叠层亚波长减反结构及其制备方法有效
| 申请号： | 200910264905.9 | 申请日： | 2009-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN101726769A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 张瑞英 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 | 代理人： | 陈忠辉 |
| 地址： | 215125 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明揭示了一种叠层亚波长减反结构，包括在需要减反的高折射率材料自身表面通过蚀刻形成的亚波长图形，以及在前述亚波长图形表面经沉积生长的介质层，二者共同构成该叠层亚波长结构，其结构图形根据所用材料的折射率分布和所要减反的入射光波长和角度范围计算得到。本发明亚波长减反结构应用于高折射率表面的有源光电器件，能确实有效实现宽谱广角透射效果。较之于现有技术，本发明能有效钝化亚波长减反结构，减少非辐射复合中心，抑制非辐射复合损失，有效增加相应光电器件性能；并且，鉴于空气、介质材料和衬底材料折射率依次变化，故而采用叠层亚波长减反结构还能减弱制备难度，或在相同制备情况下获得更好的减反性能。 | ||
| 搜索关键词： | 叠层亚 波长 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
叠层亚波长减反结构，其结构图形根据所用材料的折射率分布和所要减反的入射光波长和角度范围计算得到，其特征在于：所述叠层亚波长减反结构包括两部分：其中一部分是在需要减反的高折射率材料自身表面通过蚀刻形成的亚波长图形；另一部分是在前述亚波长图形表面经沉积生长的介质层，二者整合构成叠层亚波长减反结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所，未经中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910264905.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：曲面人工复眼及其制备方法
- 下一篇：一种基于光子晶体光纤光栅的电流传感器
