[发明专利]在平面光栅制作过程中精确控制光栅常数的方法有效
| 申请号： | 200910262348.7 | 申请日： | 2009-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN101738664A | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | 王琦;张大伟;黄元申;高秀敏;倪争技;庄松林;詹晓勇 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B17/08;G03H1/04 |
| 代理公司： | 上海东创专利代理事务所(普通合伙) 31245 | 代理人： | 宁芝华 |
| 地址： | 20009*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 在平面光栅制作过程中精确控制光栅常数的方法，采用的装置包括：光源和依次位于所述光源的光路上的：空间滤波器；凹面镜；第三反射镜和第四反射镜；凸透镜，位于曝光位置处；接收屏，位于所述凸透镜的后焦面上；所述方法包括：通过第三反射镜和第四反射镜使产生的干涉条纹的两束平行光通过所述凸透镜，在位于所述凸透镜焦距处的接收屏上产生两个汇聚焦点光斑；测量这两个焦点光斑的距离L，根据下公式计算出所需的光栅常数d，调整所述第三反射镜和第四反射镜所形成的两束平行光束的角度α以改变接收屏上两光斑的距离L，得到不同的光栅常数d。本发明对于制作不同周期的光栅调节方便，并且控制光栅周期精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 光栅 制作 过程 精确 控制 常数 方法 | ||
【主权项】：
一种在平面光栅制作过程中精确控制光栅常数的方法，其特征在于：采用如下装置：光源(1)和依次位于所述光源(1)的光路上的：空间滤波器(4)；凹面镜(7)，所述空间滤波器(4)位于所述凹面镜(7)焦点位置处；第三反射镜(5)和第四反射镜(6)；凸透镜(9)，位于曝光位置处；接收屏(10)，位于所述凸透镜(9)的后焦面上；其中，所述第三反射镜(5)和第四反射镜(6)用于分别反射一束由所述凹面镜(7)反射出的干涉条纹平行光于所述凸透镜(9)上；包括以下步骤：步骤1)、通过第三反射镜(5)和第四反射镜(6)使产生的干涉条纹的两束平行光通过所述凸透镜(9)，在位于所述凸透镜(9)焦距处的接收屏(10)上产生两个汇聚焦点光斑；步骤2)、测量这两个焦点光斑的距离L，根据下式计算出所需的光栅常数d： d = λ 4 f 2 + L 2 2 L 其中，f为凸透镜(9)的焦距，λ为光源(1)发出的激光波长，L为两光斑之间的距离；步骤3)、调整所述第三反射镜(5)和第四反射镜(6)所形成的两束平行光束的角度α以改变接收屏(10)上两光斑的距离L，得到不同的光栅常数d。
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