[发明专利]在平面光栅制作过程中精确控制光栅常数的方法

权利要求书

1.一种在平面光栅制作过程中精确控制光栅常数的方法，其特征在于：采用如下装置：

光源(1)和依次位于所述光源(1)的光路上的：

空间滤波器(4)；

凹面镜(7)，所述空间滤波器(4)位于所述凹面镜(7)焦点位置处；

第三反射镜(5)和第四反射镜(6)；

凸透镜(9)，位于曝光位置处；

接收屏(10)，位于所述凸透镜(9)的后焦面上；

其中，所述第三反射镜(5)和第四反射镜(6)用于分别反射一束由所述凹面镜(7)反射出的干涉条纹平行光于所述凸透镜(9)上；

包括以下步骤：

步骤1)、通过第三反射镜(5)和第四反射镜(6)使产生的干涉条纹的两束平行光通过所述凸透镜(9)，在位于所述凸透镜(9)焦距处的接收屏(10)上产生两个汇聚焦点光斑；

步骤2)、测量这两个焦点光斑的距离L，根据下式计算出所需的光栅常数d：

d=λ4f2+L22L]]>

其中，f为凸透镜(9)的焦距，λ为光源(1)发出的激光波长，L为两光斑之间的距离；

步骤3)、调整所述第三反射镜(5)和第四反射镜(6)所形成的两束平行光束的角度α以改变接收屏(10)上两光斑的距离L，得到不同的光栅常数d。

2.根据权利要求1所述的在平面光栅制作过程中精确控制光栅常数的方法，其特征在于：

在所述步骤3)之后还包括：

步骤4)、取出凸透镜(9)，在原凸透镜(9)的位置处放置涂有光致抗蚀剂的光栅基底(8)，由光致抗蚀剂记录干涉条纹数，该干涉条纹数为所制作的平面光栅的周期。

3.根据权利要求1所述的在平面光栅制作过程中精确控制光栅常数的方法，其特征在于：

所述光源(1)为441.6nm波长的氦镉激光器。

4.根据权利要求2所述的在平面光栅制作过程中精确控制光栅常数的方法，其特征在于：

在所述光源(1)和空间滤波器(4)之间的光路上还包括第一反射镜(2)和第二反射镜(3)，所述光源(1)发出的光依次经所述第一反射镜(2)和第二反射镜(3)反射后至所述空间滤波器(4)。