[发明专利]用于处理基板的装置有效
| 申请号： | 200910211735.8 | 申请日： | 2009-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN101762985A | 公开（公告）日： | 2010-06-30 |
| 发明（设计）人： | 高永珉 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 | 代理人： | 段迎春 |
| 地址： | 韩国忠南天安市*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种用于处理基板的装置，所述装置包括涂布单元，其沿水平方向传送所述基板，并且在传送所述基板的同时，将光阻组合物提供到所述基板上以形成所述基板上的光阻层；及靠近所述涂布单元设置的烘焙单元，在所述基板沿所述水平方向传送的同时，所述烘焙单元对所述基板进行加热以硬化所述光阻层。所述涂布单元与所述烘焙单元之间设有传送单元以沿所述水平方向传送所述基板。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种处理基板的装置，包括涂布单元，其沿水平方向传送所述基板，并且在传送所述基板的同时，将光阻组合物提供到所述基板上以形成所述基板上的光阻层；及靠近所述涂布单元设置的烘焙单元，在所述基板沿所述水平方向传送的同时，所述烘焙单元对所述基板进行加热以硬化所述光阻层。
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