[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200910206096.6 | 申请日： | 2003-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN101713932A | 公开（公告）日： | 2010-05-26 |
| 发明（设计）人： | J·洛夫;E·T·M·比拉亚尔特;H·布特勒;S·N·L·唐德斯;C·A·胡格达姆;A·科勒斯伊辰科;E·R·鲁普斯特拉;H·J·M·梅杰;J·J·S·M·默顿斯;J·C·H·穆肯斯;R·A·S·里特塞马;F·范沙克;T·F·森格斯;K·西蒙;J·T·德斯米特;A·斯特拉艾杰;B·斯特里夫克;H·范桑坦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻装置和器件制造方法，其中光刻装置包括：用于支撑构图部件的支撑结构，构图部件用于根据理想的图案对辐射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；以及用于用液体至少部分填充投射系统与基底、或与放置在基底台上的传感器、或者与基底和传感器两者之间的空间的液体供给系统；其中，基底台还包括边缘密封构件，边缘密封构件至少部分环绕基底的边缘、或传感器的边缘、或者基底和传感器两者的边缘，并且用于提供面向投射系统基本上与基底、或传感器、或基底和传感器两者的主表面共面的主表面，其中液体供给系统向传感器和/或边缘密封构件和/或基底的局部区域提供液体。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻投射装置，包括：用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对辐射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；以及用于用液体至少部分填充所述投射系统与所述基底、或与放置在所述基底台上的传感器、或者与所述基底和所述传感器两者之间的空间的液体供给系统；其特征在于，所述基底台还包括边缘密封构件，所述边缘密封构件至少部分环绕所述基底的边缘、或所述传感器的边缘、或者所述基底和所述传感器两者的边缘，并且用于提供面向所述投射系统基本上与所述基底、或所述传感器、或所述基底和所述传感器两者的主表面共面的主表面，以及其特征还在于，所述液体供给系统向所述传感器和/或所述边缘密封构件和/或所述基底的局部区域提供液体。
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