[发明专利]光刻装置和器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻投射装置，包括：

用于保持基底的基底台；

用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；以及

用于用液体至少部分填充所述投射系统与所述基底、或与放置在所述 基底台上的传感器、或者与所述基底和所述传感器两者之间的空间的液体 供给系统；

其特征在于，所述基底台还包括边缘密封构件，所述边缘密封构件至 少部分环绕所述基底的边缘、或所述传感器的边缘、或者所述基底和所述 传感器两者的边缘，并且用于提供面向所述投射系统基本上与所述基底、 或所述传感器、或所述基底和所述传感器两者的主表面共面的主表面，以 及其特征还在于，所述液体供给系统向所述传感器和/或所述边缘密封构 件和/或所述基底的局部区域提供液体。

2.如权利要求1所述的光刻投射装置，其中所述边缘密封构件和所述 基底、所述传感器、或者所述基底和所述传感器两者可以相对于彼此可移 动地安装。

3.如权利要求1所述的光刻投射装置，其中所述边缘密封构件能够在 基本上平行于所述边缘密封构件的所述主表面的平面内移动，以改变所述 边缘密封构件与所述基底、与所述传感器、或者与所述基底和所述传感器 两者之间的距离。

4.如权利要求1所述的光刻投射装置，其中所述基底台还包括一个致 动器，该致动器用于相对于所述基底台其余部分沿基本上平行于所述装置 的光轴的方向移动所述边缘密封构件。

5.如权利要求4所述的光刻投射装置，其中所述致动器包括楔状构件， 当沿基本上平行于所述边缘密封构件的所述主表面的方向移动并且与固定 在所述边缘密封构件的底部上的附加楔状构件接触时，该楔状构件有效地 相对于所述基底台的其余部分沿基本上平行于所述装置的光轴的方向移动 所述边缘密封构件。

6.如权利要求5所述的光刻投射装置，其中所述楔状构件设置成锁定 在消除由所述楔状构件的摩擦系数值产生的致动力的适当位置。

7.如权利要求1-6任一项所述的光刻投射装置，其中所述基底台还包 括疏水层，所述疏水层在所述边缘密封构件和所述基底的与所述投射系统 相对的相对侧上邻近所述边缘密封构件和所述基底的边缘部分，或者所述 疏水层在所述边缘密封构件和所述传感器的与所述投射系统相对的相对侧 上邻近所述边缘密封构件和所述传感器的边缘部分。

8.如权利要求7所述的光刻投射装置，其中所述液体与所述疏水层的 接触角大于90°。

9.如权利要求1-6任一项所述的光刻投射装置，其中用于密封基底或 所述传感器的所述边缘密封构件具有顶表面与所述边缘密封构件的主表面 共面并且向所述装置的光轴延伸的凸出部分。

10.如权利要求1-6任一项所述的光刻投射装置，其中所述基底台还 包括间隙密封构件，所述间隙密封构件沿光轴方向邻接所述边缘密封构件 和所述基底或至少部分地与所述边缘密封构件和所述基底交叠，或者所述 间隙密封构件沿光轴方向邻接所述边缘密封构件和所述传感器或至少部分 地与所述边缘密封构件和所述传感器交叠。

11.如权利要求10所述的光刻投射装置，其中所述间隙密封构件用于 与所述边缘密封构件的主表面和所述基底的主表面接触，从而横跨所述边 缘密封构件与所述基底之间的间隙，或者所述间隙密封构件用于与所述边 缘密封构件的主表面和所述传感器的主表面接触，从而横跨所述边缘密封 构件与所述传感器之间的间隙。

12.如权利要求10所述的光刻投射装置，其中所述间隙密封构件具有 内边缘和外边缘，其中至少一个边缘是锥形的，使得间隙密封构件面对所 述边缘密封构件和所述基底或者所述边缘密封构件和所述传感器的主表面 的表面离所述所述边缘密封构件和所述基底或者所述边缘密封构件和所述 传感器的主表面的距离向所述间隙密封构件的所述内边缘和外边缘减小。

13.如权利要求10所述的光刻投射装置，其中所述基底台还包括在所 述边缘密封构件的所述主表面内、用于将所述间隙密封构件保持在适当位 置的真空端口。