[发明专利]一种用于钨化学机械抛光的抛光液有效
| 申请号： | 200910198366.3 | 申请日： | 2009-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN102051126A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 王晨;徐春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于钨化学机械抛光的抛光液，其含有研磨剂，硝酸铁，稳定剂，硝酸钾和水。本发明的用于钨化学机械抛光的抛光液在硝酸铁作为氧化剂的基础上，用硅溶胶(colloidal silica)代替氧化铝作为研磨剂，通过加入硝酸钾，显著降低了产品(wafer)的缺陷(defect)，提高了生产的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 机械抛光 抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，含有研磨剂，硝酸铁，稳定剂，硝酸钾和水。
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