[发明专利]一种用于钨化学机械抛光的抛光液有效
| 申请号： | 200910198366.3 | 申请日： | 2009-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN102051126A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 王晨;徐春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 机械抛光 抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一种化学机械抛光液，含有研磨剂，硝酸铁，稳定剂，硝酸钾和水。
2.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，所述的研磨剂是气相二氧化硅(fumed silica)和/或硅溶胶(colloidal silica)中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，所述的研磨剂的质量百分比为0.2％～2％。
4.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，所述的硝酸铁的质量百分比为0.1％～2％。
5.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，所述的稳定剂的质量百分比为0.025％～0.5％。
6.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，所述的硝酸钾的质量百分比为0.2％～3％。
7.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，所述的稳定剂是可以和三价铁离子形成配位络合物的有机羧酸和/或有机膦酸。
8.根据权利要求7所述的化学机械抛光液，所述的稳定剂为丙二酸和/或2-磷酸丁烷-1，2，4-三羧酸。
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