[发明专利]研磨头装置有效
| 申请号： | 200910197684.8 | 申请日： | 2009-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN102039555A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 俞昌;杨春晓 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B29/02;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李丽 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种研磨头装置，包括：功能台，所述功能台包括基座和吸附台，且所述吸附台位于所述基座表面；设置于吸附台表面的过渡膜；导向圈，所述导向圈包括连接部和密封部，且所述连接部位于所述密封部表面；所述连接部环绕吸附台侧面和过渡膜侧面；所述密封部包覆过渡膜的边缘。本发明避免了抛光液残留掉落衬底表面，导致衬底表面形成刮痕或者在衬底表面造成污染现象。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 装置 | ||
【主权项】：
一种研磨头装置，其特征在于，包括：功能台，所述功能台包括基座和吸附台，且所述吸附台位于所述基座表面；设置于吸附台表面的过渡膜；导向圈，所述导向圈包括连接部和密封部，且所述连接部位于所述密封部表面；所述连接部环绕吸附台侧面和过渡膜侧面；所述密封部包覆过渡膜的边缘。
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