[发明专利]研磨头装置有效
| 申请号： | 200910197684.8 | 申请日： | 2009-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN102039555A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 俞昌;杨春晓 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B29/02;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李丽 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 装置 | ||
1.一种研磨头装置，其特征在于，包括：
功能台，所述功能台包括基座和吸附台，且所述吸附台位于所述基座表面；
设置于吸附台表面的过渡膜；
导向圈，所述导向圈包括连接部和密封部，且所述连接部位于所述密封部表面；所述连接部环绕吸附台侧面和过渡膜侧面；所述密封部包覆过渡膜的边缘。
2.如权利要求1所述的研磨头装置，其特征在于，所述密封部包覆过渡膜的边缘具体为所述密封部包覆过渡膜的下表面边缘20mm至50mm。
3.如权利要求1所述的研磨头装置，其特征在于，所述功能台形状是圆柱体、圆台体、立方体、长方体、不规则物体。
4.如权利要求1所述的研磨头装置，其特征在于，所述功能台材料为铁、钢、铜、耐磨合金、耐磨塑料或者陶瓷。
5.如权利要求1所述的研磨头装置，其特征在于，所述过渡膜形状为饼状。
6.如权利要求1所述的研磨头装置，其特征在于，所述导向圈材料选自耐磨塑料。
7.如权利要求1所述的研磨头装置，其特征在于，密封部与过渡膜之间的为横向接触且连接部与吸附台和过渡膜为纵向接触。
8.一种研磨头装置，其特征在于，包括：
功能台，所述功能台包括基座和吸附台，且所述吸附台位于所述基座表面；
设置于吸附台表面的过渡膜；
导向圈，所述导向圈包括结合部和定位部，且所述结合部位于定位部表面；所述结合部绕吸附台侧面且与过渡膜的边缘表面接触；所述定位部环绕过渡膜侧面。
9.如权利要求8所述的研磨头装置，其特征在于，所述结合部绕吸附台侧面且与过渡膜的边缘表面接触具体为所述结合部包覆过渡膜的上表面边缘20mm至50mm。
10.如权利要求8所述的研磨头装置，其特征在于，所述功能台形状是圆柱体、圆台体、立方体、长方体、不规则物体。
11.如权利要求8所述的研磨头装置，其特征在于，所述功能台材料为铁、钢、铜、耐磨合金、耐磨塑料或者陶瓷。
12.如权利要求8所述的研磨头装置，其特征在于，所述过渡膜形状为饼状。
13.如权利要求8所述的研磨头装置，其特征在于，所述导向圈材料选自耐磨塑料。
14.如权利要求8所述的研磨头装置，其特征在于，所述结合部环绕吸附台侧面，与吸附台侧面纵向接触，结合部与所述过渡膜边缘横向接触；且所述定位部环绕过渡膜侧面，与过渡膜侧面纵向接触。
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