[发明专利]一种用真空镀膜机制作自清洁玻璃的方法无效
| 申请号: | 200910184006.8 | 申请日: | 2009-08-06 |
| 公开(公告)号: | CN101633565A | 公开(公告)日: | 2010-01-27 |
| 发明(设计)人: | 钱中良 | 申请(专利权)人: | 钱中良 |
| 主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34 |
| 代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) | 代理人: | 柏尚春 |
| 地址: | 215411江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种用真空镀膜机制作自清洁玻璃的方法,该制备方法是先将工件进行清洗干净,然后在真空条件下充入氩气,调节轰击电流对工件进行离子轰击,清洁工件表面,然后开启第一组钨丝蒸发器,蒸发铝丝使金属态的铝丝和氧气发生氧化反应,在玻璃表面镀上一层三氧化二铝膜,然后再开启第二组钨丝蒸发器蒸发钛丝,使金属态的钛丝和氧气发生氧化反应,在三氧化二铝膜上再镀上一层致密的二氧化钛膜层,最后能得到耐用、具有自清洁功能的玻璃产品。本发明提供的用真空镀膜机制作自清洁玻璃的方法,可以方便的控制金属蒸发的速度和蒸发终点,可操作性强,能实现工业化大生产。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 真空镀膜 机制 清洁 玻璃 方法 | ||
【主权项】:
1、一种用真空镀膜机制作自清洁玻璃的方法,其特征在于,包括以下步骤:①对玻璃进行清洗、干燥,然后装在工件架上,将纯铝丝剪成一定长度装入位于真空室内的第一组钨蒸发器中,将纯钛丝剪成一定长度装入位于真空室内的第二组钨蒸发器中;②将工件架送入真空室,抽真空至≤10Pa;③对真空室充氩气使真空度下降到10~40pa,调节轰击电流至0.1~1A,对工件进行离子轰击2~10分钟后,然后对真空室抽真空使真空度达到1×10-2~4×10-2Pa;④对真空室充氧,使真空度达到5×10-2~2×10-1Pa,然后开启第一组钨蒸发器,调节蒸发电流至600~1200A,蒸发铝丝,使铝蒸汽和氧气发生氧化反应,然后在玻璃表面镀上一层三氧化二铝薄膜;⑤关闭进氧阀门,继续对真空室抽真空使真空度达到2×10-2~4×10-2Pa,然后切换蒸发电源至第二组钨蒸发器;⑥对真空室充氧,使真空度达到5×10-2~2×10-1Pa,然后开启第二组钨蒸发器,调节电流至800~1600A,蒸发钛丝,使钛蒸汽和氧气发生氧化反应,然后在三氧化二铝薄膜上再镀上一层二氧化钛薄膜;⑦关机,放气,取出工件;⑧将镀膜玻璃置于烘箱内,加热至390至420℃,并保温10~15分钟,降温后得成品。
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