[发明专利]呼吸用的纳米级滤材结构及其制造方法有效
| 申请号： | 200910177810.3 | 申请日： | 2009-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN102019114A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 庄淑媛 | 申请（专利权）人： | 庄淑媛 |
| 主分类号： | B01D39/14 | 分类号： | B01D39/14;B01D46/00;A62B23/02;B82B1/00;B82B3/00 |
| 代理公司： | 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 | 代理人： | 刘云贵 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于呼吸用的纳米级滤材结构及其制造方法，其利用半导体制程技术来制作此纳米级滤材结构，其包含：一顶闸门、一底闸门、复数个侧壁闸及复数个支撑体，其中，该些侧壁闸内形成有复数层的过滤栅栏，该些过滤栅栏系由半导体制程技术来精确控制至纳米等级。由此，纳米尺度的过滤栅栏的制作可轻易且快速，多重层叠的过滤栅栏的设计更可提升滤材的开口率，让使用者能轻松地隔着滤材进行吸气或吐气。 | ||
| 搜索关键词： | 呼吸 纳米 级滤材 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种呼吸用的纳米级滤材结构，其特征在于，包含：一顶闸门，具有复数个顶部开口；一底闸门，平行于该顶闸门且具有复数个底部开口，该些底部开口与该些顶部开口互相错开；复数个侧壁闸，位于该顶闸门与该底闸门之间且相邻于一顶部开口及一底部开口，每一侧壁闸具有平行于该顶闸门及该底闸门的复数个过滤栅栏并形成复数个过滤通道；及复数个支撑体，位于该顶闸门与该底闸门之间且位于二侧壁闸的交会处；其中，该些过滤通道具有300纳米以下的通道高度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于庄淑媛，未经庄淑媛许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910177810.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
