[发明专利]透明导电性积层体的制造方法无效
申请号: | 200910171016.8 | 申请日: | 2009-08-28 |
公开(公告)号: | CN101996713A | 公开(公告)日: | 2011-03-30 |
发明(设计)人: | 麦建进;王湧锋;尹瑞堂;王剀弘 | 申请(专利权)人: | 嘉威光电股份有限公司;麦建进 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;H01B5/14 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 过晓东 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明涉及一种透明导电性积层体的制造方法,其主要是提供一种透明导电膜中导电性积层体的制造方法,利用单一波长或特定范围宽带谱的光源照射透明导电膜,使透明导电膜表面的导电层成结晶化,加强其光学及电性特性之表现,从而完成并提升透明导电膜的可信赖性。 | ||
搜索关键词: | 透明 导电性 积层体 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种透明导电性积层体的制造方法,其包括:(1)由有机聚合物形成的一透明基材,基材表面具有至少一积层体,积层体具有至少一铟锡氧化物(ITO)导电层;(2)以单一波长或特定范围宽带谱的光源对上述基材施以照射;经照射后,基材表面的导电层的ITO吸收该光源之热能而成结晶化,使ITO导电层之光穿透度变佳、电阻率下降,从而可具备较好的光学及电性特性表现,另外所述基材则不会吸收该光源之热能从而不产生变性,使ITO导电层结晶化后的透明导电膜提升其信赖性。
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