[发明专利]在宝石表面形成图纹的方法无效
| 申请号： | 200910160869.1 | 申请日： | 2009-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN101966792A | 公开（公告）日： | 2011-02-09 |
| 发明（设计）人： | 陈致宇;张立;孙继文 | 申请（专利权）人： | 碳雨材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B44C1/04 | 分类号： | B44C1/04;B44C1/22;C30B23/00;C30B29/16 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 黄威;孙丽梅 |
| 地址： | 中国台湾台北*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种在宝石表面形成图纹的方法，该方法利用一具有镂空有图纹的遮蔽层覆盖在宝石的一表面，使用积层技术在遮蔽层的图纹镂空处生长一晶体层，并重复上述步骤，在宝石其它表面或已形成的晶体层表面再积层另外的晶体层；并借着晶体生长的条件控制，使生长的晶体具有相同或不同于原宝石的颜色，以便在不破坏宝石、不减少宝石质量下，在宝石的任何一面上形成具有立体的、色彩的图形和/或文字的图纹。 | ||
| 搜索关键词： | 宝石 表面 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种在宝石表面形成图纹的方法，其步骤包括：将至少一镂刻有图纹的遮蔽层覆盖于欲形成图纹的宝石表面；在宝石表面的遮蔽层的图纹镂空处沉积生长一轮廓相应于镂空图纹的第一晶体层；以及将遮蔽层自宝石表面上移除。
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