[发明专利]化学增幅正性抗蚀剂组合物无效
| 申请号： | 200910160590.3 | 申请日： | 2009-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN101644895A | 公开（公告）日： | 2010-02-10 |
| 发明（设计）人： | 嶋田雅彦;桥本和彦;山口训史;金淳信;高田佳幸;平冈崇志 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 徐申民;涂 勇 |
| 地址： | 日本国东京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种化学增幅正性抗蚀剂组合物，其包含：包含由结构式(I)表示的结构单元的树脂，其中，R1代表氢原子、卤素原子、C1-C4烷基或C1-C4全氟化烷基；Z代表单键或-(CH2)k-CO-X4-，k代表1至4的整数；X1、X2、X3和X4各自独立地代表氧原子或硫原子；m代表1至3的整数；而n代表0至3的整数；以及产酸剂。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 增幅 正性抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种化学增幅正性抗蚀剂组合物，其包含：包含由结构式(I)表示的结构单元的树脂：![]()
其中，R1代表氢原子、卤素原子、C1-C4烷基或C1-C4全氟化烷基；Z代表单键或-(CH2)k-CO-X4-，k代表1至4的整数；X1、X2、X3和X4各自独立地代表氧原子或硫原子；m代表1至3的整数；而n代表0至3的整数；以及产酸剂。
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