[发明专利]半导体装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200910160469.0 申请日: 2009-07-23
公开(公告)号: CN101635299A 公开(公告)日: 2010-01-27
发明(设计)人: 郑光茗;庄学理 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L29/06;H01L21/82
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 姜 燕;陈 晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种半导体装置及其制造方法。上述半导体装置包括一半导体基板;上述半导体基板的一有源区,其中上述有源区包括至少一晶体管;上述半导体基板的一无源区,其中上述无源区包括至少一电阻结构,设置于一隔绝区中,上述至少一电阻结构位于较上述至少一晶体管低的一平面上。本发明解决了现有技术中存在的上述问题,其所包含的电阻结构具有较大的电阻率和较小的面积尺寸、较佳阻抗/电容匹配。
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体装置,包括:一半导体基板;该半导体基板的一有源区,其中该有源区包括至少一晶体管;以及该半导体基板的一无源区,其中该无源区包括至少一电阻结构,设置于一隔绝区中,所述至少一电阻结构位于较所述至少一晶体管低的一平面上。
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