[发明专利]流动体的处理装置、流动体的处理方法及带有微细化装置的脱气机有效
申请号: | 200910151381.2 | 申请日: | 2003-07-16 |
公开(公告)号: | CN101612533A | 公开(公告)日: | 2009-12-30 |
发明(设计)人: | 榎村真一 | 申请(专利权)人: | M技术株式会社 |
主分类号: | B01F3/00 | 分类号: | B01F3/00;B02C7/08;B02C7/12 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 史雁鸣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供能进行高精度的分散、乳化、破碎、生产率高、构造简单的流动体的处理装置。本申请发明的装置、在密封流体通路中配置有相互相对并构成该通路的一部分的第1处理用面(1)及第2处理用面(2)至少二个处理用面,并包括压接两处理用面(1,2)的面接近压力施加机构。通过第2处理用面(2)相对第1处理用面(1)旋转或双方的相互相反方向的旋转,在两处理用面(1,2)间进行被处理流动体的分散及乳化处理。在上述接近压力施加机构的加压下,第1处理用面(1)和第2处理用面(2)处于被相互压接或接近的状态。由上述旋转,被处理流动体在第1处理用面(1)和第2处理用面(2)之间一边形成流体膜一边从两处理用面(1,2)间通过,从而获得所希望的该被处理流动体的乳化或分散状态。 | ||
搜索关键词: | 流动 处理 装置 方法 带有 微细 化装 脱气 | ||
【主权项】:
1.一种流动体的处理方法,其特征在于,被处理流动体在包含与被处理流体流过的被封闭的流体流路(3)相连接的第1和第2处理用构件(10、20、101、102)的至少2个处理用构件之间被处理,第1处理用构件(10、101)具有第1处理用面(1、110),第2处理用构件(20、102)具有第2处理用面(2、120),第1和第2处理用面(1、2、101、120)相互对向地配置并且能够相对地接近或分离,对被处理流动体施加规定的压力,第1和第2处理用面(1、2、110、120)相对地旋转,被处理流动体在旋转的两处理用面(1、2、110、120)之间通过,并被处理为规定厚度的流体膜,具有与上述流体流路(3)独立的别的导入路(28),上述第1和第2处理用面(1、2、110、120)中至少有一方具有与上述导入路(28)相通的开口部,从而将从导入路(28)输送来的移送物导入上述处理中的被处理流动体中,在两处理用面(1、2、110、120)之间施加接近压力,而至少第2处理用面(2、120)上设有在规定压力的被处理流动体的作用下产生分离力使处理用面(1、2、110、120)分离的受压面(23),并且,该受压面(23)的至少一部分是由第2处理用面(2、120)所构成,在上述两处理用面(1、2、110、120)之间,流动体作用在受压面(23)上的分离力与接近压力达到平衡,从而将两处理用面间的间隔维持为规定的微小间隔。
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