[发明专利]紫外线灯曝光系统、使用方法及校准方法有效

专利信息
申请号: 200910149661.X 申请日: 2009-06-10
公开(公告)号: CN101794078A 公开(公告)日: 2010-08-04
发明(设计)人: 莱昂内尔·弗尔伍德;格瑞格·巴克斯特 申请(专利权)人: 王氏港建经销有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H05K3/00
代理公司: 珠海智专专利商标代理有限公司 44262 代理人: 段淑华
地址: 中国香港九龙湾*** 国省代码: 中国香港;81
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摘要: 发明涉及一种改进了的用于基板紫外线曝光的紫外线灯曝光系统及其使用方法和校准方法。本发明的紫外线灯曝光系统包括:一组发出紫外线光的灯;一组与所述灯对应设置的反射器,每个反射器匹配一个灯以组成灯和反射器对,每个所述灯和反射器对具有一个投射到一个基板表面的大体独立的反射光路;每个所述灯连接至少一个电容,所述电容用于为所述灯提供能量;一个触发控制电路,用于触发连接到每个所述灯的所述至少一个电容,以单独控制每个所述灯的光照时间和强度。与现有技术相比,本发明的紫外线灯曝光系统具有系统能量消耗相对较低、容易在基板表面形成均匀的光照强度等优点。
搜索关键词: 紫外线 曝光 系统 使用方法 校准 方法
【主权项】:
紫外线灯曝光系统,包括一组发出紫外线光的灯;其特征在于:一组与所述灯对应设置的反射器,每个反射器匹配一个灯以组成灯和反射器对,每个所述灯和反射器对具有一个投射到一个基板表面的大体独立的反射光路;每个所述灯连接至少一个电容,所述电容用于为所述灯提供能量;一个触发控制电路,用于触发连接到每个所述灯的所述至少一个电容,以单独控制每个所述灯的光照时间和强度。
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