[发明专利]紫外线灯曝光系统、使用方法及校准方法

权利要求书

1.紫外线灯曝光系统，包括

一组发出紫外线光的灯；

其特征在于：

一组与所述灯对应设置的反射器，每个反射器匹配一个灯以组成灯和反射器对，每个所述灯和反射器对具有一个投射到一个基板表面的大体独立的反射光路，每个所述灯的光能分别独立地投射到被曝光基板的不同区域；

每个所述灯连接至少一个电容，所述电容用于为所述灯提供能量；

一个触发控制电路，用于触发连接到每个所述灯的所述至少一个电容，以单独控制每个所述灯的光照时间和强度。

2.根据权利要求1所述的紫外线灯曝光系统，其特征在于：所述灯以距离被曝光基板不到250毫米的位置设置。

3.根据权利要求1所述的紫外线灯曝光系统，其特征在于：每个所述灯独立于其他灯被触发闪光。

4.根据权利要求3所述的紫外线灯曝光系统，其特征在于：每个所述灯被间隔地触发。

5.根据权利要求4所述的紫外线灯曝光系统，其特征在于：每个所述灯在5秒的时间内闪光5次，每次闪光持续约28毫秒。

6.根据权利要求5所述的紫外线灯曝光系统，其特征在于：所述系统可以被整合到一个具有一个20秒的工作周期的自动曝光机。 

7.根据权利要求1所述的紫外线灯曝光系统，其特征在于：所述灯和反射器对以一个第一矩阵排列，每个灯被其配对的反射器与邻近的灯隔开。

8.根据权利要求7所述的紫外线灯曝光系统，其特征在于：所述第一矩阵中的仅部分灯被提供能量。

9.根据权利要求8所述的紫外线灯曝光系统，其特征在于：所述灯根据程序化的顺序在不同的时间被触发。

10.根据权利要求8所述的紫外线灯曝光系统，其特征在于：所述触发控制电路随每个所述灯的老化而提高其照明强度。

11.根据权利要求7所述的紫外线灯曝光系统，其特征在于：进一步包括位于所述基板相对面的以一个第二矩阵排列的灯和反射器对，所述触发控制电路以独立于所述第一矩阵中的灯的方式控制所述第二矩阵中的灯。

12.根据权利要求7所述的紫外线灯曝光系统，其特征在于：所述触发控制电路包括一个可编程的存储器，以储存每个所述灯的触发概况。

13.根据权利要求7所述的紫外线灯曝光系统，其特征在于：所述触发控制电路包括一个计算机，所述计算机被编程以根据每个灯预先设好的触发概况触发和控制连接到每个所述灯的所述至少一个电容。

14.根据权利要求13所述的紫外线灯曝光系统，其特征在于：每个灯的所述触发概况基于系统校准被间隔性地更新。

15.紫外线灯曝光系统，包括

一组紫外线灯；

其特征在于： 

与所述一组紫外线灯对应设置的一组反射器，每个反射器匹配一个灯以组成灯和反射器对，每个所述灯和反射器对具有一个投射到一个基板表面的独立的反射光路，所述灯和反射器对以一个矩阵排列，其中，每个灯被其配对的反射器与邻近的灯隔开，每个灯的光能分别独立地投射到所述基板的不同区域，所述矩阵在距离所述基板的表面不到150毫米的位置设置；

每个所述灯连接至少一个电容，所述电容用于为所述灯提供能量；

一个触发控制电路，连接到每个所述灯的所述至少一个电容，用于触发闪光，以对每个所述灯的光照时间和强度进行单独控制。

16.根据权利要求1所述紫外线灯曝光系统的使用方法，其特征在于，包括：

测量一组紫外线灯中的每个灯的光线能量，以校正一基板表面的光线能量的强度；

基于上述测量结果，决定每个灯的触发概况；

将所述每个灯的触发概况存入存储器；

将一个基板置于与所述一组紫外线灯距离约250毫米的范围内；

根据所储存的触发概况，独立地触发所述一组紫外线灯的至少一部分中的每个灯，并使其工作一个预定的时间。