[发明专利]基片托板系统与用于抛光基片的方法无效
申请号: | 200910135152.1 | 申请日: | 2002-05-29 |
公开(公告)号: | CN101524826A | 公开(公告)日: | 2009-09-09 |
发明(设计)人: | 户川哲二 | 申请(专利权)人: | 株式会社荏原制作所 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;H01L21/304;B24B49/16 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 黄永杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种基片托板系统,其包括:基片托板,其包括保持环,该保持环用于夹持基片,并将基片定位,以便在抛光过程中使基片的表面与抛光表面接触,所述基片托板还包括连接到所述保持环上的基片托板主体装置;基片托板驱动轴,其与所述基片托板连接,用于驱动、上升和下降所述基片托板;滚珠丝杠和滚珠螺母,该滚珠丝杠和滚珠螺母与所述基片托板驱动轴连接;脉冲马达,其与所述滚珠丝杠接合,用于将所述基片托板上升和下降到所希望的垂直位置;流体压力源,其向基片上方供给增压流体;和控制装置,其用于通过所述脉冲马达、所述滚珠丝杠和所述滚珠螺母固定所述基片托板的垂直位置,直到所述基片托板被固定在所希望的垂直位置,并向所述基片上方导入增压流体,将基片压贴到所述抛光表面。 | ||
搜索关键词: | 基片托板 系统 用于 抛光 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基片托板系统,其包括:基片托板,其包括保持环,该保持环用于夹持基片,并将基片定位,以便在抛光过程中使基片的表面与抛光表面接触,所述基片托板还包括连接到所述保持环上的基片托板主体装置;基片托板驱动轴,其与所述基片托板连接,用于驱动、上升和下降所述基片托板;滚珠丝杠和滚珠螺母,该滚珠丝杠和滚珠螺母与所述基片托板驱动轴连接;脉冲马达,其与所述滚珠丝杠接合,用于将所述基片托板上升和下降到所希望的垂直位置;流体压力源,其向基片上方供给增压流体;和控制装置,其用于通过所述脉冲马达、所述滚珠丝杠和所述滚珠螺母固定所述基片托板的垂直位置,直到所述基片托板被固定在所希望的垂直位置,并向所述基片上方导入增压流体,将基片压贴到所述抛光表面。
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