[发明专利]有机光阻去除剂组合物无效
| 申请号： | 200910134457.0 | 申请日： | 2009-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN101866118A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 王俪颕;苏国祯;张明钦;涂胜宏 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 孟锐 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明系有关一种光阻去除剂组合物，其包含极性有机溶剂、碱性的一级或二级醇胺化合物或其组合、三级胺化合物及防止金属蚀刻的抑制剂；该组合物可进一步包含有机酸。于大规模集成电路或超大规模集成电路等半导体制程中，本发明组合物可有效地移除于蚀刻制程后残余在基材上的光阻膜，并且避免对基材及金属表面造成腐蚀，其亦可去除金属表面的氧化物。本发明亦关于使用该组合物移除基材上的光阻膜的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 去除 组合 | ||
【主权项】：
一种光阻去除剂组合物，其包含：(1)极性有机溶剂；(2)碱性的一级或二级醇胺化合物或其组合；(3)三级胺化合物；及(4)防止金属蚀刻的抑制剂。
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