[发明专利]曝光装置有效
| 申请号： | 200910129712.2 | 申请日： | 2004-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN101526759A | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | 西永寿;引间郁雄;丰田光纪;中川正弘;萩原恒幸;水野恭志;北尚宪;谷津修;江村望 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 郭 放 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置，通过将曝光光经由液体照射在基板上而将所述基板曝光，其中，具备：投影光学系统；以及计测装置，具有设置在所述投影光学系统的像面侧的光透过部，以及经由该光透过部而接收通过了所述投影光学系统的曝光光的光接收器，所述计测装置的光接收器，在所述投影光学系统和所述光透过部之间没有液体的状态下，接收通过了所述光透过部以及投影光学系统的曝光光。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，通过将曝光光经由液体照射在基板上而将所述基板曝光，其中，具备：投影光学系统；以及计测装置，具有设置在所述投影光学系统的像面侧的光透过部，以及经由该光透过部而接收通过了所述投影光学系统的曝光光的光接收器，所述计测装置的光接收器，在所述投影光学系统和所述光透过部之间没有液体的状态下，接收通过了所述光透过部以及投影光学系统的曝光光。
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