[发明专利]曝光装置

权利要求书

1.一种曝光装置，利用曝光光经由液体对基板曝光，其中，

具备：

投影光学系统；以及

计测装置，具有：光透过部，设置在所述投影光学系统的像面侧， 并且使来自上述投影光学系统的曝光光经由液体入射；光接收器；以 及光学部件，使透射过所述光透过部的所述曝光光入射到所述光接收 器；

所述光学部件在外周反射不通过气体而从所述液体透过所述光 透过部入射到该光学部件的内部的所述曝光光，该光接收器检测在所 述光学部件的内部反射的所述曝光光。

2.一种曝光装置，利用曝光光经由液体对基板曝光，其中，

具备：

投影光学系统；以及

计测装置，具有：光透过部，设置在所述投影光学系统的像面侧， 并且使来自上述投影光学系统的曝光光经由液体入射；光接收器；以 及光学部件，使透射过所述光透过部的所述曝光光入射到所述光接收 器；

所述光学部件包含使不通过气体而从所述液体透射过所述光透 过部入射到该光学部件的所述曝光光通过的透过光学部件、及将通过 该透过光学部件的所述曝光光转换成平行光的多个透镜，该光接收器 检测被该多个透镜转换成平行光的所述曝光光。

3.如权利要求2所述的曝光装置，其中，所述光学部件具有形 成有光透过部的平坦部。

4.一种曝光装置，利用曝光光经由液体对基板曝光，其中，

具备：

投影光学系统；以及

计测装置，具有：光透过部，设置在所述投影光学系统的像面侧， 并且使来自上述投影光学系统的曝光光经由液体入射；光接收器；以 及光学部件，使透射过所述光透过部的所述曝光光入射到所述光接收 器；

所述光学部件在不通过气体而从所述液体透射过所述光透过部 入射到该光学部件的所述曝光光射出的出射面上实施了规定的光学加 工。

5.如权利要求4所述的曝光装置，其中，

所述光学部件被设计成形成有所述光透过部、或者触接安装于形 成有所述光透过部的部件。

6.如权利要求5所述的曝光装置，其中，

所述光学部件具有形成有所述光透过部的平坦部。

7.一种曝光装置，利用曝光光经由液体对基板曝光，其中，

具备：

投影光学系统；以及

计测装置，具有：光透过部，设置在所述投影光学系统的像面侧， 并且使来自上述投影光学系统的曝光光经由液体入射；光接收器；以 及光学部件，使透射过所述光透过部的所述曝光光入射到所述光接收 器；

所述光学部件被设计成形成有所述光透过部、或者触接安装于形 成有所述光透过部的部件。

8.如权利要求7所述的曝光装置，其中，

所述光学部件具有形成有所述光透过部的平坦部。

9.如权利要求1至8任意一项所述的曝光装置，其中，

所述计测装置，利用所述光接收器经由气体检测来自所述光学部 件的光。

10.如权利要求1至8任意一项所述的曝光装置，其中，

所述投影光学系统的数值孔径大于等于1。

11.如权利要求10所述的曝光装置，其中，

还具有可在所述投影光学系统的像面侧移动的载物台；

所述光学部件被配置在所述载物台上。

12.如权利要求10所述的曝光装置，其中，

所述计测装置，基于所述光接收器的检测结果来计测所述投影光 学系统的成像特性相关的信息、或者所述曝光光的照射量信息。

13.一种器件的制造方法，其特征在于，包括：

在基板上涂覆感光剂的工序；

使用权利要求1至12任意一项所述的曝光装置对涂覆了感光剂 的基板曝光的工序；以及

对曝光后的基板进行显影的工序。