[发明专利]皮肤瘢痕形成的减少有效
| 申请号： | 200910128718.8 | 申请日： | 2004-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN101507822A | 公开（公告）日： | 2009-08-19 |
| 发明（设计）人： | D·古;M·泽佩达 | 申请（专利权）人： | 坎吉有限公司 |
| 主分类号： | A61K48/00 | 分类号： | A61K48/00;A61P17/02;C12N15/861 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 林 森 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了通过在受伤部位表达p21WAF1/Cip1而减少或抑制皮肤瘢痕形成的方法和组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 皮肤 瘢痕 形成 减少 | ||
【主权项】：
1. 一种用途，其为含表达盒的多核苷酸在制备一种减少瘢痕形成的制剂上的用途，包括给予具有伤口的对象的皮肤所述多核苷酸，其中所述表达盒包含有效连接至p21WAF1/Cip1编码多核苷酸的启动子，所述多核苷酸作为含腺病毒蛋白IX部分或全部缺失的腺病毒载体的一部分给予。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于坎吉有限公司，未经坎吉有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910128718.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
