[发明专利]避免光刻胶层图形损伤的方法无效
| 申请号： | 200910085334.2 | 申请日： | 2009-05-21 |
| 公开（公告）号： | CN101893823A | 公开（公告）日： | 2010-11-24 |
| 发明（设计）人： | 杨晓松;黄德坤;余云初 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/004;G03F7/16;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 牛峥;王丽琴 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种避免光刻胶层图形损伤的方法，包括：对晶圆衬底进行气相成底膜处理、旋转涂胶、软烘及曝光；对曝光后的具有光刻胶层的晶圆衬底等待设定的时间；对等待设定时间的具有光刻胶层的晶圆衬底进行曝光后烘焙、显影及坚膜烘焙，得到光刻胶层图形。本发明提供的方法避免了所形成的光刻胶层图形损伤，保证光刻胶层图形和在掩膜上构造的图形一致。 | ||
| 搜索关键词： | 避免 光刻 图形 损伤 方法 | ||
【主权项】：
一种避免光刻胶层图形损伤的方法，包括：对晶圆衬底进行气相成底膜处理、旋转涂胶、软烘及曝光；对曝光后的具有光刻胶层的晶圆衬底等待设定的时间；对等待设定时间的具有光刻胶层的晶圆衬底进行曝光后烘焙、显影及坚膜烘焙，得到光刻胶层图形。
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