[发明专利]磺化聚苯撑乙烯/水滑石复合发光超薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 200910084340.6 申请日: 2009-05-21
公开(公告)号: CN101560386A 公开(公告)日: 2009-10-21
发明(设计)人: 陆军;闫东鹏;卫敏;段雪 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: C09K11/06 分类号: C09K11/06
代理公司: 北京太兆天元知识产权代理有限责任公司 代理人: 张洪年
地址: 100029北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了属于有机-无机复合发光材料技术领域的一种磺化聚苯撑乙烯与水滑石复合黄光发光超薄膜及其制备方法。其制备方法为:分别配制用甲酰胺溶剂剥离的水滑石胶体溶液和磺化聚苯撑乙烯的稀水溶液;用处理后的带有负电荷的基底在两种溶液中进行交替组装后得到磺化聚苯撑乙烯/水滑石复合发光超薄膜。制备的超薄膜由有机发光聚合物阴离子和无机水滑石交替组装形成,其制备过程简单,超薄膜厚度可在纳米级别精确可控,同时由于利用了水滑石刚性层板的二维限域作用,及其与聚合物阴离子的主客体相互作用,实现了发光聚合物磺化聚苯撑乙烯的固定化,并有效地提高了其光热稳定性,减少了聚合物发光薄膜因聚集而产生的荧光淬灭。
搜索关键词: 磺化 聚苯撑 乙烯 滑石 复合 发光 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
1、磺化聚苯撑乙烯/水滑石复合发光超薄膜,其特征在于,所述超薄膜为黄光发光薄膜,其由有机组分磺化聚苯撑乙烯与无机组分水滑石纳米片在三维空间层层交替组装形成,具有明显的层状结构特征,同时根据组装层数的不同,薄膜厚度可在为几纳米到几百纳米均匀调控。
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