[发明专利]磺化聚苯撑乙烯/水滑石复合发光超薄膜及其制备方法

权利要求书

1.磺化聚苯撑乙烯/水滑石复合发光超薄膜的制备方法，其特征在于， 其具体制备步骤如下：

1)制备层间阴离子为NO₃^-或者Cl^-，层板二价、三价阳离子摩尔比 M²⁺/M³⁺＝2.0-4.0的水滑石前体；

2)将步骤1)制备的水滑石前体加入甲酰胺溶剂里进行剥离，加入量为 0.5-2g/L，搅拌速度为3000-5000转/分，反应12-36小时后离心，弃去沉淀 物，得到澄清透明胶体溶液A；

3)配制质量分数为0.001-0.1wt.％的磺化聚苯撑乙烯溶液B；

4)将亲水化处理后带负电荷的石英片，硅片或玻璃片在溶液A中浸泡 10-20分钟，用去离子水充分清洗后，放置溶液B中，浸泡10-20分钟并充 分清洗，得到一次循环的磺化聚苯撑乙烯/水滑石复合发光超薄膜；

5)重复步骤4)，得到多层磺化聚苯撑乙烯/水滑石复合发光超薄膜。

2.根据权利要求1所述的磺化聚苯撑乙烯/水滑石复合发光超薄膜的制 备方法，其特征在于，步骤1)中所述的水滑石前体的主体层板的二价金属 阳离子为Mg²⁺、Co²⁺、Ni²⁺、Ca²⁺、Cu²⁺、Fe²⁺或Mn²⁺，三价金属阳离子为 Al³⁺、Cr³⁺、Ga³⁺、In³⁺、Co³⁺、Fe³⁺或V³⁺。

3.根据权利要求1所述的磺化聚苯撑乙烯/水滑石复合发光超薄膜的制 备方法，其特征在于，步骤1)中所述的水滑石前体采用共沉淀法、成核晶 化/隔离法、非平衡晶化法、尿素法、离子交换法或水热合成法制备。

4.根据权利要求1所述的磺化聚苯撑乙烯/水滑石复合发光超薄膜的制 备方法，其特征在于，步骤4)中所述的亲水化处理方法为：将石英片，硅 片或玻璃片在浓H₂SO₄中浸泡30-50分钟，然后用去离子水充分清洗至 pH＝7。