[发明专利]检测半导体晶体或外延薄膜材料极性的方法及检测系统有效

专利信息
申请号: 200910079885.8 申请日: 2009-03-13
公开(公告)号: CN101614685A 公开(公告)日: 2009-12-30
发明(设计)人: 王新强;沈波;张琦;贺小伟;许福军;尹春明;杨志坚;张国义 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: G01N23/227 分类号: G01N23/227
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 代理人: 胡小永
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种检测半导体晶体或外延薄膜材料极性的方法,所述方法包括以下步骤:利用圆偏振光辐照待测的半导体晶体或外延薄膜材料,并检测所产生的无偏压电流的电流方向;根据所述无偏压电流的电流方向,判断所述待测的半导体晶体或外延薄膜材料的极性。另外本发明还公开了一种半导体晶体或外延薄膜材料极性的检测系统。本发明的测试系统可在常温常压下工作,检测精确度高、制样简单快捷、检测速度快,对测试样品具有无损性,而且对测试人员的要求很低,操作非常容易,每个样品的测试时间仅为10分钟左右,更为重要的是整套测试系统价格低廉,可以大大降低测试成本。
搜索关键词: 检测 半导体 晶体 外延 薄膜 材料 极性 方法 系统
【主权项】:
1、一种检测半导体晶体或外延薄膜材料极性的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:利用圆偏振光辐照待测的半导体晶体或外延薄膜材料,并检测所产生的无偏压电流的电流方向;根据所述无偏压电流的电流方向,判断所述待测的半导体晶体或外延薄膜材料的极性。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京大学,未经北京大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910079885.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top