[发明专利]高真空环境下防止冷焊效应Ni-P非晶/MoS2的复合膜无效
| 申请号： | 200910074458.0 | 申请日： | 2009-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN101643897A | 公开（公告）日： | 2010-02-10 |
| 发明（设计）人： | 于金库;马明臻;刘日平;常丹华 | 申请（专利权）人： | 燕山大学 |
| 主分类号： | C23C18/16 | 分类号： | C23C18/16;C23C18/36;C23C18/50 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 066004河北省*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种非晶合金和铝合金活动件表面防冷焊效应的Ni-P非晶合金/MoS2复合膜。采用化学镀或电镀方法，制备在镀层中含有纳米二硫化钼的镍基非晶合金复合膜。这种复合膜可防止航天飞行器中运动部件或接触对偶摩擦副的真空冷焊行为，因此在航天、真空器件等领域具有广泛的应用前景。该发明复合膜的制备不需要复杂的设备，而且工艺简单、材料来源广阔、价格低廉、制备成本低、生产工程无污染，适合于工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 环境 防止 冷焊 效应 ni mos2 复合 | ||
【主权项】：
1.一种高真空环境下防止冷焊效应Ni-P非晶/MoS2的复合膜，其特征在于：在非晶和铝合金工件表面上镀覆Ni-P非晶/MoS2复合膜，在高真空环境下所述Ni-P非晶/MoS2复合膜具有防止冷焊效应；
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法，例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法，例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀，即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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